Versuchsangebot im Winter Term 2017/18

AG - Schwerpunkt Astro- und Geophysik

BK - Schwerpunkt Biophysik und Komplexe Systeme

FM - Schwerpunkt Festköper- und Materialphysik

KT - Schwerpunkt Kern- und Teilchenphysik

BK.ABB

Analysis of Brownian Motion ...

BK.GAS

Gliding Assays: Measurement of ATP Dep.

BK.LIP

Lipid Monolayers – Film Balance

BK.MDS

Molecular Dynamics Simulations of Proteins

BK.MIF

Microfluidics

BK.NLF

Nd:YAG Laser and SHG

BK.NSE

Nanostructuring ...

BK.PKR

Phase Contrast Radiography

BK.SLM

X-ray reflectivity study of lipid membranes

BK.STM

STED Microscopy

BK.TRS

Total Reflection of X-rays ...

AG.RBK

Rayleigh-Bénard Convection

Versuch

BK.NSE

Winter Term 2017/18 - Schwerpunkt Biophysik und Komplexe Systeme

Nanostructuring by means of Electron Beam Lithography

Die Elektronenstrahl-Lithographie dient zur Nanostrukturierung z.B. von optischen Komponenten. Am Institut für Röntgenphysik werden z.B. neuartige Röntgenwellenleiter hergestellt. Typische Strukturgrößen liegen im Bereich von wenigen Nanometern bis zu einigen hundert Mikrometern. In diesem Verfahren wird im Rasterelektronenmikroskop der Elektronenstrahl über einen elektronenempfindlichen Lack entsprechend der gewünschten Struktur gerastert. Das Entwickeln der Strukturen erfolgt anschließend nass-chemisch. Im Versuch werden typische Prozessschritte wie Belacken, Belichten, Entwickeln durchgeführt und Strukturen im sub-100 nm-Bereich hergestellt. Es soll u.a. gezeigt werden, welchen Einfluss Belichtungsparameter und Entwicklertemperatur auf die Größe und Qualität der Strukturen haben. Ferner gibt der Versuch einen Einblick in das Arbeiten unter Reinraumbedingungen.

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Betreuer:

M. Kanbach

Prüfer:

Prof. T. Salditt

Prof. S. Köster

Standort:

Belegung im Winter Term 2017/18

Anleitung BK.NSE (1.3 MB)

Sprache(n)

D